Floraison nanométrique
Lors de la fabrication d’un microprocesseur, chaque manipulation requiert une extrême précision. L’une des étapes de base consiste à déposer une couche de résine photosensible sur la surface d’une plaquette d’un matériau semi-conducteur, ici en arséniure de gallium. C'est à travers cette couche de résine, qui a la forme de l'image que l'on souhaite imprimer sur le substrat, que le matériau sera gravé. Toutefois, à l’échelle nanométrique, la moindre impureté ou le moindre incident de manipulation peut provoquer des désordres géométriques inattendus. Sur ce composant aussi petit qu’une pièce de monnaie, des résidus de résine semblent avoir mystérieusement bourgeonné, révélant des motifs délicats qui évoquent la forme des sakuras, les cerisiers ornementaux du Japon.
Auteure
Meriem Bouchilaoun, Laboratoire nanotechnologies et nanosystèmes (LN2)
Technique utilisée
Microscopie électronique à balayage
Domaine
Microélectronique
Crédits
M. Bouchilaoun, Laboratoire nanotechnologies et nanosystèmes (LN2) (CNRS / Université de Sherbrooke / Insa Lyon / École centrale de Lyon/ESCPE Lyon / Université Grenoble-Alpes / Comue Université de Lyon)